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真空镀膜设备
【中文】支持 Ge、Si、ZnSe、ZnS 等红外基材，配备 GTHC-8 霍尔离子源，膜层致密均匀。
【English】Supports Ge, Si, ZnSe and ZnS infrared substrates with GTHC-8 Hall ion source for dense and uniform films.
成都国泰真空设备有限公司国泰真空是一家专业从事研发、生产和销售真空镀膜设备及配件的高新技术企业，致力于为国内外客户提供定…
